四氟化碳：微电子工业中的必备刻蚀气体
四氟化碳：微电子工业中的必备刻蚀气体
四氟化碳是微电子工业中使用最广泛的等离子烛刻气体，其高纯度与四氟化碳
高纯度与高纯度氧混合。
1. 可广泛应用于烛刻硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨膜材料。对于硅和
二氧化硅系统，通过调整两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在二
氧化硅薄膜上刻蚀多晶硅格栅非常有用。
2. 它还广泛应用于电子设备表面清洁、太阳能电池生产、激光技术、气相绝缘、
低温制冷、泄漏检测剂、宇宙火箭控制姿势、印刷电路生产中的去污剂等。
3. 由于其强大的化学稳定性，CF4还可以应用于金属冶炼和塑料工业。
4. 四氟化碳具有很好的溶解氧，因此被科学家用于超深度潜水试验，而非普通
压缩空气。现在，它已成功地在275米至366米的深度内，老鼠仍能安全地摆脱
危险。
储存四氟化碳
1. 根据国家质量技术监督局《气瓶安全监督条例》的规定，使用和检验气瓶。
2. 气瓶不能靠近火源，不能暴露在阳光下，与明火的距离一般不小于10米，
气瓶不能碰撞。
3. 气瓶严禁沾油。
4. 气瓶内的气体不能全部耗尽，应留下不小于0.04MPa的剩余压力。
四氟化碳钢瓶包装在钢质无缝气瓶中，产品纯度为99.999%。多年来，武汉纽
瑞德气体公司一直专业供应四氟化碳。纽瑞德是购买四氟化碳的首选。
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