高纯六氟化硫的应用
预计今明两年国内六氟化硫需求达到峰值4000～4500吨，2008～2010将稳定在4000吨左右。
另外高纯六氟化硫(纯度在99.99%以上)，国内需求非常旺盛，而且附加值较高。
高纯六氟化硫主要用于半导体工业中作清洗气体。
六氟化硫的成本只有NF3的几分之一，近年来，各公司以廉价的SF6取代以往CVD工艺中作为清洗气体的NF3的新技术正被广泛研究。
该技术在大幅降低液晶产品加工中占相当比例的CVD气体成本的同时，还显示出了极佳的环保前景，近年来用量有明显的提高。
据权威机构预测，2010年我国将成为仅次于美国的世界第二大集成电路市场，总需求量约为500亿美元。目前国内使用高纯六氟化硫作为蚀刻气的生产线约有50条左右预计。2016年将达到700吨左右，
国内使用六氟化硫作为蚀刻气的生产线有近50条，在未来的五年预计将有20条至30条新线建成。每年约消耗高纯六氟化硫为600吨左右。而国内高纯六氟化硫产品远远不能满足市场需求，半导体厂家所用高纯产品大部分依赖进口，这给高纯六氟化企业提供更多的发展机遇。
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