高纯SF6气体的应用
高纯SF6气体是我国科研、生产等许多部门急需的特种气休,在半导体工业巾用于等离子蚀刻工艺,在光导纤维制造中用作隔离层掺杂剂。高纯SF6气体还是重要的激光材料,在其它领域也有重要用途。
在TFT-LCD面板厂及其他微电子行业，高纯SF6气体常用作清洁气体和蚀刻气体，在光导纤维的生产过程中，也常用六氟化硫作为单膜光纤隔离层掺杂剂。
高纯氧化铝能显著提高PTFE耐高温绝缘性能。
复合PTFE相对介电常数随温度的升高而减小，随填料的增加而增大。在相同添加量的情况下，加入BN的复合PTFE相对介电常数最小，其次是高纯氧化铝（Al2O3）,加入MoS2的复合PTFE相对介电常数最大。
高纯氧化铝能有效提高PTFE的耐电弧烧蚀性能。
添加无机填料能有效的提高喷口材料耐电弧烧蚀性能。当填料种类不同时，复合PTFE的电弧烧蚀量依次为：
复合MoS2的PTFE烧蚀量>复合三氧化二铝的PTFE烧蚀量>复合BN的PTFE烧蚀量。
高纯氧化铝的粒径范围是在5-10um，纯度为99.9999%为最佳。
高纯氧化铝还能提高PTFE的耐高温性能，耐磨性能。
2010年我国将成为仅次于美国的世界第二大集成电路市场，目前国内使用高纯六氟化硫作为蚀刻气的生产线约有50条左右。
在未来的五年预计将有20条至30条新线建成。每年约消耗高纯六氟化硫为600吨左右。而国内高纯六氟化硫产品远远不能满足市场需求，半导体厂家所用高纯产品大部分依赖进口，这给六氟化硫气体企业提供更多的发展机遇。
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