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有关于四氟化碳气体的说明


    中文名:四氟甲烷四氟化碳  英文名:tetrafluoromethane; carbon  tetrafluoride  分子式:CF4  
    相对分子质量:88.01CAS号:75-73-0  危险性类别:第2.2类  不燃气体化学类别:卤代烷  

四氟化碳

    四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。  侵入途径: 接触眼睛,接触皮肤,吸入,误食  
健康危害: 当中害者因为缺氧不省人事,必须转移到没受污染的地方使之能呼吸新鲜空气或者输入氧气  环境危害: 该物质在常温常压下是气体。吸入高浓度的溶液后,会发生头昏、恶心、呕吐、方向感丧失、失调、昏迷。吸入者会窒息。低温气体会导致冻伤。  
    在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,挥发性较高,是最稳定的有机化合物之一,在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒氟化物。 
    四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体,可 广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。 
    在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

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